Samsung investit 6 milliards de dollars dans une ligne EUV en technologie < 7 nm
Samsung Electronics annonce le lancement de la construction d’une nouvelle ligne de production de semiconducteurs faisant appel à la lithographie EUV (ultraviolet extrême) à Hwaseong en Corée. Il est prévu que les nouvelles installations soient prêtes au deuxième semestre 2019 avec une montée en puissance de la production dès 2020. L’investissement initial dans la nouvelle ligne EUV devrait atteindre 6 milliards de dollars d’ici 2020 et d’autres investissements seront déterminés en fonction des conditions du marché.
Cette nouvelle ligne EUV fera appel à une production en technologie de gravure en dessous de 7nm. La société pourra répondre aux besoins de divers marchés, notamment mobiles, serveurs, réseaux et HPC (calcul haute performance) qui demandent des performances et une efficacité énergétique élevées.
« Avec cette nouvelle ligne EUV, Hwaseong deviendra le centre névralgique des usines coréennes de semiconducteurs de la société, de Giheung, de Hwaseong et de Pyeongtaek », a déclaré Kinam Kim, président et CEO de la division Device Solutions chez Samsung Electronics.
Samsung a décidé de commencer à appliquer la technologie de lithographie EUV à son procédé de gravure en 7nm LPP (Low Power Plus).
