Selon la banque suisse UBS, la Chine ne rattrapera pas l’avance d’ASML en lithographie EUV avant au moins dix ans, son niveau technologique actuel correspondant à celui d’ASML en 2004. En revanche, elle pourrait combler son retard en équipements DUV d’ici deux à cinq ans.
Le fabricant néerlandais de semi-conducteurs et cette filiale de Horse Powertrain, coentreprise entre Renault et le constructeur automobile chinois Geely, veulent approfondir leur coopération sur les technologies GaN et SiC pour développer une électronique de puissance plus efficace pour les véhicules électrifiés.
L’entreprise franchit le cap de la production en série, à Taïwan, de sa batterie tout solide de dernière génération, annoncée à 381 Wh/kg. Mais après Taïwan, l’entreprise veut faire de la France son site de production à grande échelle.
En une journée, ASML a annoncé des avancées et des partenariats avec Intel Foundry, TSMC et Samsung pour accélérer l’adoption de sa technologie de lithographie dans l’ultraviolet extrême à haute ouverture numérique (EUV High NA) et sa transition vers les masques de 12 pouces.
Samsung Electro-Mechanics a signé un contrat record de près de 800 M$ avec une multinationale pour la fourniture de condensateurs MLCC pour serveurs d’IA. D’une durée d’un an, il s’agit du plus important contrat de fourniture de MLCC à long terme jamais conclu, selon l’entreprise coréenne.
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