Riber livre la plus grosse machine MBE au monde à IntelliEPI
Le Français Riber, leader mondial des équipements d’épitaxie par jets moléculaires (MBE) pour l’industrie des semiconducteurs, annonce la livraison à son client historique IntelliEPI du premier système MBE 8000, plus grosse machine MBE au monde. Cet équipement est destiné à la fabrication de substrats épitaxiaux pour des applications laser à cavité verticale émettant par la surface (VCSEL) ultra-performantes.
Étant donné que les dispositifs basés sur VCSEL émettent par la surface du substrat, ils peuvent être transformés en dispositifs avec des systèmes d’émetteurs à haute densité. Ces composants remplacent progressivement les lasers traditionnels comme technologie de référence pour s’imposer dans un nombre croissant d’applications – par exemple, la détection 3D (reconnaissance faciale sur les smartphones) ou le contrôle des mouvements – dans divers secteurs, tels que l’électronique grand public, la santé, l’automobile, ou les télécommunications.
Par rapport à d’autres technologies, la technologie MBE de Riber offre une gamme d’avantages. Sa capacité à créer des interfaces très abruptes combinée à un contrôle du dopage très précis se traduit par une qualité améliorée des films semiconducteurs déposés, des propriétés de conductivité renforcées et des performances supérieures pour les lasers.
Afin de répondre au besoin d’une plate-forme MBE à plus grand débit de production pour la fabrication de substrats épitaxiaux à haute performance avec une excellente uniformité, Riber a développé le nouveau système de production MBE 8000. Basée sur la technique de dépôt en ultravide et entièrement automatisée, cette machine est munie d’un réacteur multi wafer capable de faire croître simultanément jusqu’à 8 substrats de 150 mm et offre la possibilité de passer à terme sur des substrats de 200 mm. La machine permet de produire des VCSEL et d’autres dispositifs avec une précision de contrôle à la monocouche atomique et une uniformité d’épaisseur de film bien inférieure à 1% pour un niveau de rendement inégalé.
Pour IntelliEPI, le système MBE 8000 vient renforcer sa capacité en épitaxie. Avec une flotte déjà composée de 3 MBE 49, 8 MBE 6000, 2 MBE 7000, 1 V90 et 1 VG100, cette nouvelle machine de production MBE 8000 permettra à IntelliEPI de faire face à l’accroissement prévu de la demande de VCSEL et d’autres marchés, notamment dans les produits en arséniure de gallium (GaAs) sur tranches de 150 mm avec une qualité totale pour mieux satisfaire ses clients.
« Cette plate-forme technologique de pointe MBE 8000, avec un débit accru et des performances améliorées, permettra à IntelliEPI de mieux répondre aux besoins des marchés émergents de haute performance, tels que les VCSEL pour les LiDAR dans l’automobile, ainsi que les HEMT ou les HBT pour les applications RF 5G. Une amélioration clé est l’augmentation de l’uniformité des matériaux à travers un réacteur beaucoup plus grand. Avec le déploiement futur de ces réacteurs MBE 8000 dans nos installations de fabrication agrandies au Texas, IntelliEPI sera en mesure de fournir des produits et services de meilleure qualité à tous ses clients », commente Yung-Chung Kao, p-dg d’IntelliEPI.
Intelligent Epitaxy Technology (IntelliEPI) est l’un des principaux fournisseurs de tranches d’épitaxie semiconductrices composées à base d’épitaxie destinées aux industries de l’électronique et de l’optoélectronique à partir de GaAs, InP, GaSb et d’autres substrats. IntelliEPI utilise des systèmes d’épitaxie par jets moléculaires (MBE) de production multi-plaquettes équipés d’une technologie propriétaire de surveillance de la croissance in situ en temps réel pour fabriquer des tranches épi hautes performances. La société a été créée au Texas en 1999.
