Samsung Electronics annonce son intention d’augmenter sa capacité de fonderie avec une nouvelle ligne de production de l’entreprise, à Pyeongtaek, en Corée, afin de répondre à la croissance de la demande mondiale en matière de solutions de pointe basées sur la lithographie EUV (ultraviolets extrêmes).

La construction de la nouvelle ligne de fonderie, axée sur le procédé de gravure en 5 nm EUV et moins, débute ce mois-ci, la ligne devrait fonctionner à plein régime au second semestre 2021. Elle jouera un rôle majeur dans la stratégie de Samsung d’étendre l’utilisation des technologies de pointe dans une myriade d’applications actuelles et de prochaine génération, y compris la 5G, le calcul haute performance (HPC) et l’intelligence artificielle (IA).

« Cette nouvelle installation de production va accroître les capacités de fabrication de Samsung pour le procédé sub-5 nm et nous permettra de répondre rapidement à la demande croissante de solutions basées sur l’EUV, » a déclaré ES Jung, président de la division fonderie de Samsung Electronics.

Suite au passage à la production en masse du procédé en 7 nm EUV début 2019, Samsung a récemment ajouté à son réseau mondial de fonderie une nouvelle ligne de fabrication V1 dédiée à l’EUV, à Hwaseong, en Corée. Grâce à la nouvelle installation de Pyeongtaek et un début de fonctionnement à plein régime en 2021, la capacité de fonderie de Samsung basée sur l’EUV devrait ainsi augmenter de manière significative.

Samsung devrait débuter la production en masse du procédé en 5 nm EUV dans l’usine de Hwaseong au second semestre de cette année. Avec, en plus, l’usine de Pyeongtaek, Samsung disposera d’un total de sept lignes de production dédiées aux prestations de fonderie en Corée du Sud et aux États-Unis, comprenant six lignes 300 mm et une ligne 200 mm.