Sélectionner une page

Le laboratoire commun à ASML et l’Imec sur la lithographie EUV High NA ouvre ses portes

Le laboratoire commun à ASML et l’Imec sur la lithographie EUV High NA ouvre ses portes

En donnant accès au premier prototype de scanner EUV High NA du marché, ce laboratoire aide les fabricants de semiconducteurs à prendre en main cette technologie complexe qui permet de réaliser des nœuds de gravure de 1 nm et moins, pour accélérer son adoption dans la fabrication de masse des futurs semiconducteurs avancés.

L’Imec, le centre de recherche et d’innovation de Louvain dans le domaine de la nanoélectronique et des technologies numériques, et ASML, premier fournisseur mondial de systèmes de lithographie pour la production de semiconducteurs, ont annoncé hier l’ouverture d’un laboratoire commun à Veldhoven, aux Pays-Bas, dédié à la lithographie aux UV extrêmes (EUV) et à haute ouverture numérique (High NA) qui permet la réalisation de nœuds de gravure de 1 nm et moins.

L’objectif est de donner aux fabricants de puces logiques et de mémoires avancées, ainsi qu’aux fournisseurs de matériaux et d’équipements de pointe, un accès au premier prototype de scanner EUV High NA du marché – le modèle TWINSCAN EXE : 5000 développé par ASML – pour les aider à prendre en main cette technologie complexe, à sonder ses performances et à développer des cas d’usage pour leurs futurs projets, et cela avant même que ces équipements ne soient opérationnels dans leurs usines de semiconducteurs, dans la perspective d’une production de volume qui pourrait être mise en place dès 2025-2026, selon ASML et l’Imec.

© ASML / Imec

« Les équipements EUV High NA (0,55) constituent la prochaine étape de la lithographie optique, avec la promesse d’une structuration de lignes/espaces métalliques avec un pas de 20 nm en une seule exposition pour les prochaines générations de puces Dram. Ce qui améliorera les rendements et réduira le temps de cycle et même les émissions de CO2 par rapport aux équipements EUV 0,33 NA multimotifs existants, faisant du procédé EUV High NA un élément clé pour faire avancer la loi de Moore jusque dans l’ère de l’ångström. Pour l’Imec et ses partenaires, le laboratoire de lithographie EUV High NA agira comme une extension virtuelle de notre salle blanche de 300 mm à Louvain, nous permettant d’améliorer encore l’écosystème et de pousser la résolution de l’EUV High NA vers ses limites ultimes », assure Luc Van den Hove, CEO de l’Imec.

« Le laboratoire de lithographie EUV High NA commun à ASML et l’Imec propose à nos clients, partenaires et fournisseurs l’opportunité d’accéder aux systèmes EUV High NA pour le développement de procédés en attendant que leur propre système soit disponible dans leurs usines. Ce type d’engagement très précoce est unique et va accélérer considérablement la courbe d’apprentissage de la technologie et faciliter son introduction dans le secteur manufacturier », indique, de son côté, Christophe Fouquet, nouveau CEO d’ASML qui a pris ses fonctions en avril dernier.

Rappelons qu’Intel n’a pas attendu l’ouverture de ce laboratoire pour acheter, réceptionner et assembler dans sa Fab D1X d’Hillsboro, dans l’Oregon, le premier scanner TWINSCAN EXE : 5000 du marché commercialisé par ASML, faisant d’Intel le seul fondeur au monde équipé de ce mastodonte de 165 tonnes et 380 millions de dollars l’unité.

INSCRIPTION NEWSLETTER

DECOUVREZ VIPRESS MESURE

REJOIGNEZ-NOUS

Newsletters par date

juin 2024
L M M J V S D
 12
3456789
10111213141516
17181920212223
24252627282930

ALLEZ A L'ESSENTIEL !

Recevez notre newsletter par email  

You have Successfully Subscribed!

Pin It on Pinterest

Share This