L’Imec et ASML s’engagent dans une ligne pilote pour le sub-nanomètre
L’Imec, le centre de recherche et d’innovation de Louvain dans le domaine de la nanoélectronique et des technologies numériques, et ASML, premier fournisseur mondial de systèmes de lithographie pour la production de semiconducteurs, annoncent aujourd’hui leur intention d’intensifier leur collaboration dans la prochaine phase de développement d’un la ligne pilote de lithographie ultra-violette extrême (EUV) à ouverture numérique élevée (NA) à l’Imec.
Des investissements importants sont nécessaires pour garantir un large accès de l’industrie à la lithographie EUV à haute ouverture numérique au-delà de 2025 et conserver les capacités de R&D liées aux processus de nœuds avancés en Europe. Ce protocole d’accord donne le coup d’envoi de la prochaine phase de collaboration intensive entre l’ASML et l’Imec sur l’EUV High-NA.
« Cet engagement d’ASML, qui s’appuie sur plus de 30 ans de collaboration fructueuse, envoie un signal fort de notre ambition inébranlable à faire progresser la technologie des puces sub-nanométriques. Si ces projets nous permettent de renforcer nos atouts régionaux dans un premier temps, ils ouvrent également la voie à une future coopération mondiale, permettant à des partenaires du monde entier de bénéficier de percées locales. C’est grâce à ces efforts collectifs que nous pouvons véritablement accélérer l’innovation et propulser l’industrie des semi-conducteurs vers de nouveaux sommets », a commenté Luc Van den hove, président et CEO de l’Imec.
« ASML prend un engagement substantiel dans l’usine pilote de pointe de l’Imec pour soutenir la recherche sur les semiconducteurs et l’innovation durable en Europe. Alors que l’intelligence artificielle (IA) se développe rapidement dans des domaines tels que le traitement du langage naturel, la vision par ordinateur et les systèmes autonomes, la complexité des tâches augmente. Par conséquent, il est crucial de développer une technologie de puce capable de répondre à ces demandes de calcul sans épuiser les précieuses ressources (énergétiques) de la planète », a ajouté Peter Wennink, président et CEO d’ASML.
La ligne pilote est destinée à aider les industries utilisant les technologies des semi-conducteurs à comprendre les opportunités que la technologie avancée des semi-conducteurs peut apporter et à avoir accès à une plate-forme de prototypage qui soutiendra leurs innovations.
Le protocole d’accord comprend l’installation et le service de la suite complète d’équipements avancés de lithographie et de métrologie d’ASML dans la ligne pilote de l’Imec à Louvain, en Belgique. Cet accord s’inscrit dans les ambitions et les plans de la Commission européenne et de ses États membres (Chips Act, PIEEC) afin de renforcer l’innovation pour relever les défis sociétaux. Une partie de la collaboration entre l’Imec et ASML s’effectuera dans le cadre d’une subvention du PIEEC en microélectronique qui est actuellement en cours d’examen par le gouvernement néerlandais.
