Le groupe néerlandais spécialiste des équipements de lithographie dédiés à l’industrie des semiconducteurs maintient ses prévisions de croissance pour 2025 mais craint que l’incertitude générée par les surtaxes douanières ne vienne enrayer cette belle mécanique.
Cet accord sur cinq ans prévoit que l’ensemble du portefeuille d’équipements d’ASML soit installé dans la ligne pilote de l’Imec et dans la ligne pilote NanoIC financée par l’UE et la Flandre, avec un accent mis sur le développement de nœuds de gravure avancés et sur l’innovation durable.
Bientôt un concurrent chinois pour ASML ? Selon des médias américain et taïwanais, la Chine pourrait commencer à tester ses propres équipements de lithographie aux UV extrêmes (EUV) dès le troisième trimestre 2025 et les produire à partir de 2026. Ce qui permettrait à la Chine de produire ses propres puces avancées dédiées à l’IA, ce dont elle est incapable aujourd’hui, du fait des restrictions américaines.
Le fabricant néerlandais d’équipements de production de semiconducteurs a engrangé un chiffre d’affaires de 28,3 milliards d’euros en 2024, ce qui constitue un nouveau record pour l’entreprise, qui espère continuer sur sa lancée en 2025.
Le Japonais débute l’installation du premier équipement de lithographie EUV livré sur le sol japonais et destiné à la production de volume de semiconducteurs avancés en technologie 2 nm.
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